利用过氧化物的氧化性氧化分解硅片化学机械抛光后表面的有机物残留配合特选的表面活性剂
利用金刚石膜电化学法合成的过氧化物配合特选的表面活性剂作为清洗试剂
刘效岩等
一种有效去除化学机械抛光后残留有机物的新方法[EB/OL]
北京：中国科技论文在线
能够有效去除硅片化学机械抛光后表面的有机物残留
） 摘要： 本文提出了硅片化学机械抛光后表面残留的有机物污染
一种有效去除化学机械抛光后残留有机物的新方法Method of wiping off residue organic matter in Post–CMP cleaning
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