基于CMOS 65nm工艺的k-band低噪声放大器设计A 3.4dB NF k-band LNA in 65nm CNOS Technology

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在65nm CMOS 混合信号工艺下设计了一个k 波段低噪声放大器

闫娜

 基于CMOS 65nm工艺的k-band低噪声放大器设计[EB/OL]

北京:中国科技论文在线

) 摘要: 本论文提出了一种可以实现最低噪声系数的k波段(18-26

5 GHz)LNA 的设计方法

Yan Na 2,* ( 1、 ASIC & System State Key Laboratory, Fudan University, ShangHai 201203

2、 复旦大学专用集成电路和系统国家重点实验室

* ( 1、 复旦大学专用集成电路和系统国家重点实验室

测试出的最低噪声系数(NF)为3

4 dB

该LNA工作在22

45 GHz时可以20

46 dB的增益

低噪声放大器

2、 ASIC & System State Key Laboratory, Fudan University

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