二氧化硅薄膜二次电子发射系数研究Study on Secondary Electron Eield of Silicon Dioxide Thin Film

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 二氧化硅薄膜二次电子发射系数研究[EB/OL]

北京:中国科技论文在线

测试了三种厚度二氧化硅薄膜二次电子的发射系数

得到了二氧化硅薄膜厚度与二次电子发射系数的关系

二氧化硅符合微通道板发射层要求

主要研究方向:光电成像器件 【收录情况】 中国科技论文在线: 翟耘萱

设计了二氧化硅薄膜厚度

得到了二氧化硅薄膜厚度为5nm时

主要研究方向:光电成像系统与器件 通信联系人: 端木庆铎(1956-)

二次电子发射系数 ZHAI Yunxuan

制备了3nm、5nm和7nm的三种厚度的二氧化硅薄膜

【详情见下载】

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