磁控溅射制备纳米厚度的连续银膜Preparation and analysis continuous silver film of nano-level by magnetic sputtering

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 磁控溅射制备纳米厚度的连续银膜[EB/OL]

北京:中国科技论文在线

薄膜表面的粗糙度随着溅射功率和厚度的增加有增大的趋势

薄膜的生长速率随着溅射功率的增大而呈线性增大趋势

薄膜表面的颗粒粒径随着溅射功率的增大而呈增大的趋势

) 摘要: 利用磁控溅射方法制备了纳米级厚度的银膜

原子力显微镜图像显示薄膜的生长方式呈岛状生长方式

测试结果表明:薄膜表面颗粒均匀、薄膜致密

【收录情况】 中国科技论文在线: 张彦彬

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