Si层厚度和退火处理对Co/Si薄膜结构和磁性的影响The influence of Si layer thickness and post-annealing on structures and magnetism of Co/Si films

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 更新：2017-03-04

 标签： filmssi研究薄膜退火

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Si层厚度和退火处理对Co/Si薄膜结构和磁性的影响[EB/OL]

北京：中国科技论文在线

研究了Si层厚度和后期退火对薄膜结构和磁性的影响

Si层较厚的Co/Si薄膜中未观察到Co颗粒的存在

LI Xiaoli * （ School of Chemistry and Materials Science, Shanxi Normal University, Linfen 041004

退火能在一定程度上改善薄膜的饱和磁化强度

Si层较厚的薄膜的饱和磁化强度和电阻均较小

主要从事磁性半导体和磁电阻效应的研究【收录情况】中国科技论文在线：王亚磊

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