单晶硅绒面减反结构制备技术研究Study on the Preparation Technology of Monocrystalline Silicon Antireflection Surface

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 单晶硅绒面减反结构制备技术研究[EB/OL]

北京:中国科技论文在线

吉林 长春 130000

主要研究方向:半导体光电子器件 【收录情况】 中国科技论文在线: 郝子恒

主要研究方向:成像电子器件与系统 通信联系人: 王国政(1977-)

形貌理想的绒面结构

表面陷光结构是至关重要

为了获得理想的绒面结构

化学腐蚀

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