间隙可调胶体晶体单层制备技术Monolayer colloidal mask with tunable interstice size for nanosphere lithography

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 间隙可调胶体晶体单层制备技术[EB/OL]

北京:中国科技论文在线

制备得到了间隙尺寸可调的胶体晶体单层

采用这种方法可以制备得到应用于纳米球刻蚀技术的高质量、间隙尺寸可调的、可转移的胶体晶体单层

) 摘要: 将水气界面胶体自组装与化学气相沉积法相结合

严清峰 2

郑露 2

北京 100084

生成的二氧化硅均匀地沉积在漂浮于水面的胶体晶体单层上

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