利用高温退火可以调控氧化石墨烯在285 nm SiO2/Si衬底上的光学对比度
氧化石墨烯位于~225 nm的吸收峰红移至~270 nm
倪振华
热退火对氧化石墨烯光学性质的影响[EB/OL]
北京:中国科技论文在线
并研究了氧化石墨烯薄膜光学性质随真空热还原(从室温到1050℃)的变化
而位于~305 nm的肩峰在180℃还原之后消失
利用高温退火可以调控氧化石墨烯在285 nm SiO2/Si衬底上的光学对比度
氧化石墨烯位于~225 nm的吸收峰红移至~270 nm
热退火对氧化石墨烯光学性质的影响[EB/OL]
并研究了氧化石墨烯薄膜光学性质随真空热还原(从室温到1050℃)的变化
而位于~305 nm的肩峰在180℃还原之后消失